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  • Bancada Didática de Controle de Processos Controlado por Computador com válvula de controle pneumática Edibon UCPCN

Variáveis ​​como temperatura, pressão ou vazão geralmente precisam ser fixadas em sistemas ou máquinas grandes. Por exemplo, a temperatura de um reator pode ser controlada para manter uma saída consistente do produto.


POSSIBILIDADES PRÁTICAS:


Controle de Processo de Temperatura:

 1.- Loops de controle de temperatura (Manual).

 2.- Loops de controle de temperatura (On / Off).

 3.- Loops de controle de temperatura (proporcional).

 4.- Loops de controle de temperatura (proporcional + integral).

 5.- Loops de controle de temperatura (proporcional + derivado).

 6.- Loops de controle de temperatura (proporcional + derivado + integral).

 7.- Ajuste da constante de um controlador de temperatura (Ziegler Nichols).

 8.- Ajuste da constante de um controlador de temperatura (curvas de reação).

 9.- Calibração do sensor de temperatura.

Controle de processo de fluxo:

10.- Loops de controle de fluxo (manual).

11.- Loops de controle de fluxo (On ​​/ Off).

12.- Loops de controle de fluxo (proporcional).

13.- Loops de controle de fluxo (proporcional + integral).

14.- Loops de controle de fluxo (proporcional + derivado).

15.- Loops de controle de fluxo (proporcional + derivado + integral).

16.- Ajuste das constantes do controlador de fluxo (Ziegler-Nichols).

17.- Ajuste das constantes do controlador de fluxo (curvas de reação).

18.- Calibração do sensor de fluxo.

Controle de Processo de Nível:

19.- Loops de controle de nível (Manual).

20.- Loops de controle de nível (On / Off).

21.- Loops de controle de nível (proporcional).

22.- Loops de controle de nível (proporcional + integral).

23.- Loops de controle de nível (proporcional + derivado).

24.- Loops de controle de nível (proporcional + derivado + integral).

25.- Ajuste das constantes de um controlador de fluxo (Ziegler-Nichols).

26.- Ajuste das constantes de um controlador de fluxo (curvas de reação).

27.- Calibração do sensor de nível.

Controle de Processo de Pressão:

28.- Loops de controle de pressão (Manual).

29.- Loops de controle de pressão (On ​​/ Off).

30.- Loops de controle de pressão (proporcional).

31.- Loops de controle de pressão (proporcional + integral).

32.- Loops de controle de pressão (proporcional + derivado).

33.- Loops de controle de pressão (proporcional + derivado + integral).

34.- Ajuste da constante de um controlador de pressão (Ziegler Nichols).

35.- Ajuste da constante de um controlador de pressão (curvas de reação).

Controle de Processo de pH:

37.- Loops de controle de pH (Manual).

38.- Loops de controle de pH (On / Off).

39.- Loops de controle de pH (proporcional).

40.- Loops de controle de pH (proporcional + integral).

41.- Loops de controle de pH (proporcional + derivado).

42.- Loops de controle de pH (proporcional + derivado + integral).

43.- Ajuste da constante de um controlador de pH (Ziegler-Nichols).

44.- Ajuste da constante de um controlador de pH (curvas de reação).

45.- Calibração do sensor de pH.

Condutividade e Controle de Processo TDS (Total de Sólidos Dissolvidos):

46.- Loops de controle de condutividade (Manual).

47.- Loops de controle de condutividade (On / Off).

48.- Loops de controle de condutividade (Proporcional).

49.- Loops de controle de condutividade (Proporcional + Integral).

50.- Loops de controle de condutividade (Proporcional + Derivada).

51.- Loops de controle de condutividade (Proporcional + Derivada + Integral).

52.- Ajuste da constante de um controlador de condutividade (Ziegler Nichols).

53.- Ajuste da constante de um controlador de condutividade (curvas de reação).

54.- Loops de controle TDS (Manual).

55.- Loops de controle TDS (On / Off).

56.- Loops de controle TDS (proporcional).

57.- Loops de controle TDS (Proporcional + Integral).

58.- Loops de controle TDS (proporcional + derivado).

59.- Loops de controle TDS (proporcional + derivado + integral).

60.- Ajuste da constante de um controlador TDS (Ziegler-Nichols).

61.- Ajuste da constante de um controlador TDS (Curvas de reação).

62.- Condutividade e calibração do sensor TDS.


ESPECIFICAÇÕES:


UCPCN-UB. Base Unit:

 Bench-top unit.

 This unit is common for all Sets for Process Control type “UCPCN” and can work with one or several sets.

 Anodized aluminium structure and panels in painted steel.

 Main metallic elements in stainless steel.

 Diagram in the front panel with similar distribution to the elements in the real unit.

 A transparent main tank and collector with an orifice in the central dividing wall (2 x 25 3 dm ), and drainage in both compartments.3 A transparent dual process tank (2x10 dm ), interconnected through an orifice and a ball valve and an overflow in the dividing wall; a graduate scale and a threaded drain of adjustable level with bypass.

 2 Centrifugal pumps, range: 0-10 l./min.

 2 Variable area flow meters (0.2-2 l./min, and 0.2-10 l./min), and with a manual valve.

 Line of on/off regulation valves (solenoid). Usually one is normally opened, and the other two are normally closed, and manual drainage valves of the upper tank.

 Pneumatic control valve:

 Pneumatic valve with positioner regulator.

 Body in stainless steel connection G 1/2” , orifice 6 mm.

 The I/P converter transforms the electric signal sent from the computer into a proportional pressure that acts over the valve.

 Any Set for Process Control type “UCPCN” will be supplied installed in the Base Unit and ready for working.



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